Article / Réf : RE123 v1

Logiciel Hikad : modéliser l'organisation atomique durant la croissance de HfO sur silicium

Auteur(s) : Alain ESTEVE, Mehdi DJAFARI-ROUHANI, Ahmed DKHISSI, Cédric MASTAIL, Georges LANDA, Anne HEMERYCK, Nicolas RICHARD

Date de publication : 10 avr. 2009