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Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

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Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

Auteur(s) : Nathanaelle SCHNEIDER, Frédérique DONSANTI

Date de publication : 10 octobre 2016 | Read in english

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7. Glossaire

ALD  ; Atomic Layer Deposition

Technique de dépôt chimique en phase vapeur à flux alternés, basée sur des réactions de surface autolimitantes, qui permet un contrôle fin de l’épaisseur, de la composition des films, et des caractéristiques spécifiques (uniformité, conformalité).

adsorption  ; adsorption

Terme décrivant les phénomènes d’interaction entre une espèce gazeuse ou liquide (adsorbat) et une surface (adsorbant). Elle peut être de type physique (physisorption) ou chimique (chimisorption).

fenêtre ALD  ; ALD window

Gamme de température dans laquelle la vitesse de dépôt est constante et la croissance de type ALD....

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