2. PEALD
Dans ce chapitre nous allons présenter les différents réacteurs plasma utilisés en PEALD, puis nous donnerons de nombreux exemples concernant l’impact d’une assistance plasma sur les propriétés des couches minces élaborées.
2.1 Réacteurs
Il existe 3 types de réacteurs plasma pour assister l’ALD. Deux utilisent une source inductive tandis que le troisième utilise une source capacitive.
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Radical Enhanced ALD
Dans ce type de réacteur, on utilise une source plasma déportée. Ce plasma est généralement créé à partir d’une source inductive (13,56 MHz par exemple) ou micro-onde (2.45 GHz). Ce plasma est déporté afin d’éviter tout contact direct entre le plasma et le substrat. On utilise alors...
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PEALD
Conclusion
Sources bibliographiques
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