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Dépôt par ablation laser pulsé

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Dépôt par ablation laser pulsé

Auteur(s) : Thomas FIX

Relu et validé le 12 mars 2021 | Read in english

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5. Conclusion

Le dépôt par ablation laser pulsé est une technique bien établie et courante dans les laboratoires de matériaux, historiquement dédiée à la fabrication de couches minces d’oxydes complexes. Elle n’est cependant encore que peu utilisée dans l’industrie en comparaison avec d’autres techniques comme la pulvérisation cathodique ou la CVD. La question cruciale de l’étendue de la surface de dépôt, restée pendant longtemps un point bloquant pour une industrialisation, est d’ores et déjà résolue dans des systèmes pilotes, encore peu répandus dans les laboratoires de recherche. Des dépôts de grande qualité structurale peuvent être obtenus assez facilement. L’inconvénient majeur de la technique reste les débris et les gouttelettes sur la surface du film. Bien que plusieurs solutions existent pour remédier à cet inconvénient, elles restent également encore peu répandues. La PLD permet l’exploration...

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