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INTRODUCTION
Cette deuxième partie de l’étude des
composants de puissance unipolaires et mixtes
est principalement consacrée au transistor Métal-Oxyde-Semiconducteur et aux dispositifs qui en dérivent. En continuité avec l’article
pour ce qui touche aux composants unipolaires, elle se fonde par ailleurs, pour les composants mixtes, sur les principes généraux des composants bipolaires, tels qu’ils sont présentés dans l’article
.
L’apparition des transistors Métal-Oxyde-Semiconducteur de puissance, puis de toute une gamme de composants plus complexes où sont combinés l’effet de champ MOS et des mécanismes d’injection bipolaires, a accompagné, pendant la décennie 1980, un changement radical de conception dans le domaine des composants de l’électronique de puissance : la commande MOS « isolée » et l’association en parallèle, dans le même cristal, d’un nombre élevé de composants ou « cellules » élémentaires (jusqu’à plusieurs millions d’unités) résout l’apparente incompatibilité des technologies de puissance classiques et des technologies purement microélectroniques. Les dispositifs étudiés ici sont donc déjà des
composants de puissance intégrés
, les formes les plus abouties étant décrites dans l’article
« Intégration de puissance ».
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Semi-conducteurs de puissance unipolaires et mixtes (partie 2)