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Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes, matériaux, évolutions, applications

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Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes, matériaux, évolutions, applications

Auteur(s) : Nathanaelle SCHNEIDER, Élisabeth BLANQUET

Date de publication : 10 juillet 2026 | Read in english

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6. Glossaire

ALD  ; ALD (Atomic Layer Deposition)

Technique de dépôt chimique en phase vapeur à flux alternés, basée sur des réactions de surface autolimitantes. Cela permet un contrôle fin de l’épaisseur et de la composition des films, et l’obtention de caractéristiques spécifiques (uniformité, conformalité).

Adsorption  ; adsorption

Terme décrivant les phénomènes d’interaction entre une espèce gazeuse ou liquide (adsorbat) et une surface (adsorbant). Elle peut être de type physique (physisorption) ou chimique (chimisorption).

Fenêtre ALD  ; ALD window

Gamme de températures dans laquelle la vitesse de dépôt...

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