2. Lithographie optique : enjeux et challenges
La lithographie optique, aussi appelée photolithographie, est indiscutablement la méthode principale de fabrication de masse des circuits de la microélectronique. Elle consiste à graver sur un polymère photosensible des motifs à reproduire (circuits). Ce motif polymère est ensuite transféré sur le wafer de silicium sur lequel a été préalablement déposée la fine couche de polymère. Depuis les années 1970, cette technique a connu un certain nombre d'évolutions, décrites en détail dans la référence . Ces évolutions ont concerné :
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Lithographie optique : enjeux et challenges
Exploitation de l'optique de champ proche
Références bibliographiques
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