4. Conclusion
L'intégration des NTC dans divers dispositifs exige le contrôle à l'échelle nanométrique de la croissance (nombre de parois, chiralité...), leur patterning, mais surtout la diminution de la température de synthèse. La majorité des procédés actuels tels que l'arc électrique, l'ablation laser, la CVD (dépôt chimique en phase vapeur ou
Chemical Vapor Deposition
) permettent généralement la synthèse en grande quantité de NTC, mais avec une faible sélectivité entre les différentes phases du carbone déposé. En revanche, les procédés mixtes de la famille CVD semblent les mieux adaptés pour une intégration
in situ
qui évite des étapes supplémentaires de purification et de manipulation. Dans la course des nanotechnologies, les procédés plasmas sont donc bien présents.
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