Conclusion
Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

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Conclusion
Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

Auteur(s) : Nathanaelle SCHNEIDER, Frédérique DONSANTI

Date de publication : 10 octobre 2016 | Read in english

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6. Conclusion

Avec des dispositifs de plus en plus petits, et des structures de plus en plus complexes, la nécessité de pouvoir déposer des couches conformes, minces d’épaisseur et de composition contrôlée n’a jamais été autant d’actualité. La technique d’ALD, avec ses réactions autolimitantes et séparées, est en mesure de répondre à ces contraintes. En raison de ces avantages, de nombreux procédés d’ALD ont été développés pour une grande variété de matériaux, allant des métaux aux oxydes, nitrures métalliques à des matériaux complexes ternaires, ce qui permet à l’ALD d’être utilisée dans un nombre très varié d’applications industrielles. Afin de répondre au mieux à ce besoin industriel, des nouveaux designs de réacteurs sont apparus, comme le SALD

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