2. Paramètres de dépôt
2.1 Matériaux précurseurs
La cible doit contenir les éléments chimiques du matériau que l’on souhaite déposer en couche mince. Dans le cas des oxydes, on privilégiera une cible d’oxyde (e.g. cible de CuO pour un dépôt de Cu2O ; CuO est plus stable chimiquement que Cu2O) plutôt qu’une cible métallique (e.g. Cu) en raison principalement de la plus grande difficulté à ablater les métaux que les oxydes. Cette cible, par exemple de dimension 1′′ et d’épaisseur 3 mm, peut être achetée commercialement (une cible dédiée à la pulvérisation cathodique peut convenir, voire même un substrat de grande taille acheté commercialement), ou réalisée soit-même.
Dans le cas des oxydes, la méthode la plus simple est la voie du frittage : il s’agit de broyer des poudres des...
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