SALD vs ALD
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

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RE262 V1 Recherche et innovation

SALD vs ALD
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

Auteur(s) : David MUÑOZ-ROJAS

Date de publication : 10 novembre 2016 | Read in english

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1. SALD vs ALD

La technique ALD a été brevetée en 1977 par T. Suntola . Dans ce premier brevet, les approches temporelle et spatiale ont déjà été proposées. Dans le premier cas, les précurseurs sont injectés sous forme d’injections consécutives séparées par des étapes de purge (et donc séparés dans le temps). Dans le deuxième, les précurseurs sont fournis en continu en différents endroits, et c’est le substrat qui se déplace d’un endroit à un autre (ainsi les précurseurs sont déposés en étant séparés dans l’espace, voir figure

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