État de l’art
Matériau PZT compatible avec le silicium - Procédé de dépôt par voie sol-gel

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État de l’art
Matériau PZT compatible avec le silicium - Procédé de dépôt par voie sol-gel

Auteur(s) : Philippe BELLEVILLE, Philippe BOY

Date de publication : 10 août 2005

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2. État de l’art

Parallèlement à la voie PVD, il existe dans la littérature de nombreuses descriptions de procédés d’élaboration de solutions à composition PZT par synthèse sol-gel. Les plus pertinentes d’entre elles présentent néanmoins une certaine restriction quant à une utilisation industrielle potentielle.

Ainsi, pour certains auteurs 

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