Nanophotolithographie en champ proche
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NM556 V1 Article de référence

Nanophotolithographie en champ proche
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Auteur(s) : Renaud BACHELOT

Date de publication : 10 octobre 2007 | Read in english

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4. Nanophotolithographie en champ proche

Afin de mettre en œuvre une nanophotolithographie en champ proche, trois points clés ont du être traités :

  • la connaissance et la qualité (puissance et taille) de la source optique ;

  • la réponse intrinsèque du matériau photosensible;

  • la distance entre le matériau et la source.

.Principe et triple motivation de la nanophotolithographie en champ proche
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