Ingénierie moléculaire des précurseurs ALD
Chimie des précurseurs pour le procédé ALD

Associer au sein d’une même molécule des propriétés de volatilité, de stabilité thermique et de réactivité se révèle être un réel défi relié à l’ingénierie moléculaire, c’est-à-dire à la structure tridimensionnelle de la molécule et à la force des interactions intra- (liaisons chimiques) et intermoléculaires (liaisons hydrogènes ou de type van der Waals). Cette filiation structure/propriétés des précurseurs moléculaires pour ALD doit donc tenir compte des différents paramètres atomiques du métal (rayon, charge, degré d’oxydation) et ceux structuraux du ligand tels que son encombrement stérique, la présence d’atomes de fluor, sa dissymétrie et/ou ses propriétés électroniques (donneur ou accepteur).

Trouver la sphère de coordination la plus appropriée qui permette un dépôt performant par ALD est un domaine de recherches qui a été abordé depuis les années 1990 par...