2. Techniques classiques
2.1 Dépôts par voie chimique (en phase gazeuse et liquide)
La CVD ( Chemical Vapor Deposition ) est une technique de dépôt de couche mince en phase gazeuse dans laquelle des précurseurs sous forme gazeuse interagissent avec la surface du substrat, soit par réaction soit par décomposition pour former la couche mince métallique souhaitée. L’utilisation d’un plasma généré par radio fréquence dans cette procédure permet...
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Techniques classiques
Techniques assistées par voie laser
Sources bibliographiques
- (1) - - Projection thermique métallisation. © Sofiplast – http://www.sofiplast.fr/revetement_projection_thermique.php .
- (2)...
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