3. Gestion des arcs dans un procédé HiPIMS
La formation d’arcs sur les cibles de pulvérisation et sur les substrats polarisés négativement est un problème difficile à résoudre dans les applications de pulvérisation magnétron . Cela est particulièrement vrai lorsque des gaz réactifs , de grandes surfaces de cibles ou des décharges HiPIMS sont envisagés. Cette phase associée à une croissance brusque du courant de cible est généralement...
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Gestion des arcs dans un procédé HiPIMS
Effet du champ électromagnétique de la cathode sur les propriétés du plasma
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