3. Gestion des arcs dans un procédé HiPIMS
La formation d’arcs sur les cibles de pulvérisation et sur les substrats polarisés négativement est un problème difficile à résoudre dans les applications de pulvérisation magnétron . Cela est particulièrement vrai lorsque des gaz réactifs, de grandes surfaces de cibles ou des décharges HiPIMS sont envisagés. Cette phase associée à une croissance brusque du courant de cible est généralement indésirable, notamment pour les applications nécessitant un contrôle et une qualité élevés des propriétés des films en raison de la production de microgouttelettes (macro-particules)...
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Gestion des arcs dans un procédé HiPIMS
Effet du champ électromagnétique de la cathode sur les propriétés du plasma
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