2. Chimie, physique, procédés « nanométriques » ascendants
Les principaux défis consistent à développer des techniques/méthodes avec des niveaux de résolution suffisants et une large compatibilité avec les matériaux qui peuvent exercer une influence sur l’imprimabilité, la taille des voxels, et par suite, sur la constructibilité et la résolution spatiale. Les voies les plus réussies comprennent :
des schémas descendants qui impliquent le masquage et l’enlèvement sélectif de matériaux, souvent dans des séquences répétitives ;
des stratégies ascendantes qui reposent sur l’assemblage de composants ou sur le dépôt de matériaux ;
des transformations de formes bidimensionnelles (2D) en 3D déclenchées par des forces internes ou des stimulus externes (cas des origamis) ;
l’assemblage guidé mécaniquement par...
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Chimie, physique, procédés « nanométriques » ascendants
Stéréolithographie multiphotonique
Sources bibliographiques
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