Elisabeth BLANQUET

Grâce à leurs réactions irréversibles  et saturées, les procédés d’ALD permettent de déposer des couches uniformes, minces d’épaisseur et de composition contrôlée. Découvrez les avantages et les nombreuses applications industrielles de cette technique de dépôt chimique.

Lors de la mise au point d’un procédé de dépôts de couches atomiques, la prise en compte de la thermodynamique de la phase gazeuse présente plus d’un intérêt. Cette approche permet de prévoir les réactions, d’optimiser les conditions opératoires et de minimiser les coûts expérimentaux.