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Professeur des Universités - Institut de Recherches sur la Catalyse et l’Environnement de Lyon, IRCELYON-UMR CNRS 5256, Université Lyon 1, Villeurbanne, France
Sur la base de quels critères sélectionner les précurseurs appropriés au procédé Atomic Layer Deposition ? Les composés doivent présenter une volatilité et une stabilité thermique, mais également une forte réactivité avec le substrat.