2. ALD : principe, caractéristique, applications et défis pour le PV
L’ALD, par son mécanisme de croissance propre (réactions chimiques séquentielles et autolimitées de surface), permet le dépôt de couches minces aux propriétés uniques (contrôle à l’échelle atomique de la composition et de l’épaisseur de films, conformes, uniformes) à basse température sur de larges surfaces (à l’échelle du m2). Ainsi, les matériaux fonctionnels ALD ont des applications variées à l’échelle du laboratoire et de l’industrie PV.
Nous rappelons ici quelques aspects-clés de la croissance par ALD et des films obtenus, qui sont approfondis dans d’autres articles.
2.1 Propriétés et intérêt des films obtenus par ALD
L’ALD est un procédé versatile qui permet le dépôt de couches minces conformes, même sur des substrats à fort rapport d’aspect (hauteur/largeur...
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ALD : principe, caractéristique, applications et défis pour le PV
Exemples applicatifs de l’ALD au PV
Sources bibliographiques
- (1) - International Technology Roadmap for Photovoltaic (ITRPV). - https://www.vdma.eu/de/international-technology-roadmap-photovoltaic.
- (2)...
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