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Directrice de Recherche au CNRS, Docteur en chimie des Universités de Strasbourg et Heidelberg - Institut du Photovoltaïque d’Ile de France (IPVF), UMR 9006 CNRS, Ecole Polytechnique – IP Paris, Chimie Paristech – PSL, Palaiseau, France
Découvrez comment la technologie des dépôts de couches minces ALD répond aux besoins du photovoltaïque. Les performances des couches de passivation d’alumine déposées par ce procédé ouvrent sur ce marché de nouvelles perspectives d’applications commerciales.
Grâce à leurs réactions irréversibles et saturées, les procédés d’ALD permettent de déposer des couches uniformes, minces d’épaisseur et de composition contrôlée. Découvrez les avantages et les nombreuses applications industrielles de cette technique de dépôt chimique.
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Grâce à leurs réactions irréversibles et saturées, les procédés d’ALD permettent de déposer des couches uniformes, minces d’épaisseur et de composition contrôlée. Découvrez les avantages et les nombreuses applications industrielles de cette technique de dépôt chimique.
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