Conclusion
Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes, matériaux, évolutions, applications

Avec les dispositifs devenant de plus en plus petits, et des structures de plus en plus complexes, la nécessité de pouvoir déposer des couches conformes, minces et de composition contrôlée n’a jamais été autant d’actualité. La technique ALD, avec ses réactions autolimitantes et séparées, est en mesure de répondre à cette contrainte. En raison de ces avantages, de nombreux procédés d’ALD ont été développés pour une grande variété de matériaux, allant des métaux aux oxydes et nitrures métalliques à des matériaux complexes ternaires, ce qui permet à l’ALD d’être utilisée dans un nombre très large d’applications industrielles. Afin de répondre au mieux aux besoins industriels, des nouveaux designs de réacteurs sont apparus, comme le Spatial ALD, et de nouvelles techniques adaptées (ALE, AS-ALD) afin de baisser les coûts et de d’assurer le développement industriel de cette technique. En parallèle,...