6.
Bulletin MRS (Materials Research Society)Fabrication of sub-45 nm structures for the next generation of devices. Vol. 30, n˚ 12, déc. 2005.RONSE (K.)Optical lithography – a historical perspective. C. R. Physique, doi : 10.1016/j.chry.2006.10.007 (2006).SWITKES (M.)ROTHSCHILD (M.)KUNZ (R.R.)BAEK (S.-Y.)COLES (D.)YEUNG (M.)Immersion lithography : Beyond the 65 nm node with optics. Microlithography World, p. 4, mai 2003.COURJON (D.)Near-field microscopy and near-field optics. Imperial College Press, Londre (2003).NOVOTNY (L.)HECHT (B.)Principles of Nanooptics. Cambridge Press (2007).LOURTIOZ (J.M.)TCHELNOKOV (A.)Nanophotonique et Micro-Nanotechnologies. Techniques de l'ingénieur. Nanotechnologies
Cet article est réservé aux abonnés
Cet article est réservé aux abonnés. Il vous reste 92 % à découvrir.
Déjà abonné ?
Se connecter
Lecture en cours
Références bibliographiques