Présentation
RÉSUMÉ
La maîtrise de la matière à l’échelle atomique est essentielle pour le développement de l’électronique de future génération que nous illustrerons dans ce chapitre avec quatre exemples ; la spintronique, les supraconducteurs, les qubits et les matériaux bidimensionnels. La méthode ALD permet de contrôler précisément la structure et la composition des matériaux, permettant un contrôle fin des interfaces et des propriétés électroniques. Si cette précision favorise l’émergence de nouvelles physiques et la possibilité de concevoir des dispositifs quantiques innovants et plus performants, nous donnerons également quelques exemples de limites de l’approche ALD qui font toujours l’objet de recherche.
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Bruno DLUBAK : Chargé de recherche - Laboratoire Albert Fert, CNRS, Thales, Université Paris-Saclay, Palaiseau, France
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Florian GODEL : Ingénieur de recherche - Laboratoire Albert Fert, CNRS, Thales, Université Paris-Saclay, Palaiseau, France
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Pierre SENEOR : Professeur - Laboratoire Albert Fert, CNRS, Thales, Université Paris-Saclay, Palaiseau, France
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Yasmine KALBOUSSI : Chercheuse - Département des accélérateurs et du cryomagnétisme, CEA, Université Paris-Saclay, Gif-sur-Yvette, France
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Catherine MARICHY : Chargée de recherche - Laboratoire des Multimatériaux et des interface, CNRS, Université Claude Bernard Lyon 1, Villeurbanne, France
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Thomas PROSLIER : Directeur de recherche - Département des accélérateurs et du cryomagnétisme, CEA, Université Paris-Saclay, Gif-sur-Yvette, France
INTRODUCTION
La maîtrise de la matière à l’échelle atomique constitue un enjeu majeur dans le développement des technologies quantiques, notamment dans les domaines de la spintronique, des supraconducteurs et des qubits pour l’informatique quantique. Les procédés dits par couches atomiques, mis en œuvre à travers des techniques telles que le dépôt par couches atomiques (ALD, Atomic Layer Deposition ) et la gravure couche par couche (ALE, Atomic Layer Etching ) permettent de contrôler avec une grande précision l’épaisseur, la composition et la structure des matériaux à l’échelle nanométrique.
L’ALD est un procédé chimique de croissance limité à la surface
qui permet un contrôle précis de l’épaisseur au niveau atomique, et
ce même sur des substrats à rapport d’aspect élevé
L’ALE permet quant à elle de graver un matériau avec un contrôle atomique....
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MOTS-CLÉS
qubits | spintronique | Supraconducteur | Matériaux 2D
DOI (DIGITAL OBJECT IDENTIFIER)
RÉFÉRENCE BIBLIOGRAPHIQUE
ALD pour l'électronique du futur
Dépôt par couche atomique pour la spintronique
Sources bibliographiques
- (1) - DIENY (B.), PREJBEANU (I.L.), GARELLO (K.), GAMBARDELLA (P.), FREITAS (P.), LEHNDORFF (R.), RABERG (W.), EBELS (U.), DEMOKRITOV (S.O.), AKERMAN (J.), DEAC (A.), PIRRO (P.), ADELMANN (C.), ANANE (A.), CHUMAK (A.V.), HIROHATA (A.), MANGIN (S.), VALENZUELA (S.O.), ONBASLI (M.C.), D’AQUINO (M.), PRENAT (G.), FINOCCHIO...
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