Conclusion
ALD pour l'électronique du futur

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RE290 V1 Article de référence

Conclusion
ALD pour l'électronique du futur

Auteur(s) : Bruno DLUBAK, Florian GODEL, Pierre SENEOR, Yasmine KALBOUSSI, Catherine MARICHY, Thomas PROSLIER

Date de publication : 2 octobre 2026

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5. Conclusion

Les techniques de dépôt ALD, SA-ALD, MLD et d’attaque chimique ALE occupent aujourd’hui une place croissante dans le développement des technologies quantiques émergentes. Grâce à leur contrôle précis de l’épaisseur, de la composition chimique et des interfaces à l’échelle atomique, ces approches constituent des outils particulièrement adaptés à la fabrication de dispositifs où les propriétés quantiques (électroniques, magnétiques…) sont extrêmement sensibles aux défauts structuraux et chimiques.

Dans le domaine de la spintronique, ces méthodes permettent l’élaboration de couches ultraminces présentant une forte homogénéité, des interfaces abruptes et un contrôle fin des propriétés des barrières tunnels et des propriétés de spin, conditions indispensables pour optimiser les phénomènes de transport spin-polarisé, les couples spin-orbite ou encore les effets magnétiques...

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