Dynamique des fluides et SALD : des défis d’ingénierie
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

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Dynamique des fluides et SALD : des défis d’ingénierie
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

Auteur(s) : David MUÑOZ-ROJAS

Date de publication : 10 novembre 2016 | Read in english

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3. Dynamique des fluides et SALD : des défis d’ingénierie

Du point de vue chimique, la SALD est équivalente à l’ALD et, afin que le dépôt ne se produise qu’au travers de la croissance de la couche limitée à la surface, la surface à recouvrir doit être saturée et tout précurseur physisorbé en excès ou restant au-dessus de la surface doit être enlevé dans la zone de purge. Puisque, par le principe même de la méthode SALD, les précurseurs sont fournis en continu, leur séparation efficace est une question clé et les réacteurs doivent être conçus de telle sorte que la barrière d’écoulement inerte soit efficace. Comme nous l’avons vu au § 2

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