6. Conclusion
Le développement de procédés de dépôt permettant un contrôle fin des propriétés des films minces revêt une très grande importance. Entre autres, la pulvérisation magnétron en régime d’impulsions de haute puissance (HiPIMS) permet une forte ionisation des atomes métalliques pulvérisés. Or, le contrôle de l’énergie des ions atteignant le substrat est généralement réalisé en appliquant une polarisation du substrat.
Cette approche est judicieuse, mais elle est aussi difficilement industrialisable, surtout si l’on considère des substrats électriquement isolants. C’est pourquoi le régime HiPIMS bipolaire, dans lequel une impulsion de tension positive est appliquée à la cible après l’impulsion de tension négative de haute puissance, a été développé récemment et a permis plusieurs avancées.
Nous avons abordé dans cet article plusieurs aspects importants....
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