6. Exemples d’utilisation à l’échelle industrielle
Les applications des régimes pulsés au stade industriel ont essentiellement pour objectifs une meilleure qualité cristalline des dépôts ainsi qu’une uniformité d’épaisseur et/ou de composition pour ce qui concernent les alliages. Ces objectifs mettent ainsi à profit l’effet favorable, d’une part, des densités de courant importantes sur la cinétique de germination 2.4
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Exemples d’utilisation à l’échelle industrielle
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