Décharge basse pression, basse température
Dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence

Ajouter à la bibliothèque

NM610 V1 Article de référence

Décharge basse pression, basse température
Dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence

Auteur(s) : Gilles RENOU

Date de publication : 10 avril 2006 | Read in english

Ajouter à la bibliothèque Ajouter à la bibliothèque

Logo Techniques de l'Ingenieur Cet article est réservé aux abonnés
Pour explorer cet article plus en profondeur Consulter un extrait gratuit

Déjà abonné ?

2. Décharge basse pression, basse température

2.1 Décharge diode continue

Pour créer une décharge dans un gaz entre deux plaques conductrices, il faut vaincre la rigidité électrique du milieu en appliquant un champ électrique important jusqu'à une tension d'amorçage V b ( breakdown en anglais). Ce potentiel V b dépend du gaz et du produit pression × distance interélectrodes.

La fonction V b  =  ( p  ×  d ) se traduit par les courbes...

Cet article est réservé aux abonnés
Logo Techniques de l'Ingenieur

Cet article est réservé aux abonnés. Il vous reste 92 % à découvrir.

Cet article est réservé aux abonnés Consulter un extrait gratuit

Déjà abonné ?


Lecture en cours
Décharge basse pression, basse température

Article inclus dans l'offre

"Nanosciences et nanotechnologies"

( 153 articles )

Une base complète d’articles

Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques.

Services

Quiz, médias, tableaux, formules, vidéos, etc.

Des modules pratiques

Opérationnels et didactiques, pour garantir l'acquisition des compétences transverses.

Des avantages inclus

Un ensemble de services exclusifs en complément des ressources.

Voir le détail de l'offre

Contenus associés

Sur le même sujet

Veille Personnalisée : Inscrivez-vous !

Inscrivez-vous aux newsletters !

Contactez-nous