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Dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence

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Dépôt de films nanométriques en pulvérisation cathodique radiofréquence

Auteur(s) : Gilles RENOU

Date de publication : 10 avril 2006 | Read in english

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1. Présentation

Gilles RENOU est ingénieur en élaboration des matériaux au laboratoire d’études des milieux nanomé­triques, université d’Évry

Nous allons nous intéresser aux décharges basse température, basse pression. Nous nous attacherons aux spécificités des décharges excitées par des champs électriques haute fréquence qui constituent un cas très particulier de ces plasmas. On les appelle couramment décharges radiofréquence et la fréquence utilisée est souvent 13,56 MHz. Le gaz plasmagène le plus utilisé est l'argon en raison de sa neutralité chimique (gaz rare), de sa masse relativement élevée ( M  = 40) et de son coût modique par rapport aux autres gaz neutres.

Ces décharges basse température, basse pression, souvent appelées plasmas froids,...

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