Dynamique des fluides et SALD : des défis d’ingénierie
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

Ajouter à la bibliothèque

RE262 V1 Archive

Dynamique des fluides et SALD : des défis d’ingénierie
Dépôt par couche atomique spatiale (SALD)

Auteur(s) : David MUÑOZ-ROJAS

Date de publication : 12 novembre 2016 | Read in english

Ajouter à la bibliothèque Ajouter à la bibliothèque

Logo Techniques de l'Ingenieur Cet article est réservé aux abonnés
Pour explorer cet article plus en profondeur Consulter un extrait gratuit

Déjà abonné ?

3. Dynamique des fluides et SALD : des défis d’ingénierie

Du point de vue chimique, la SALD est équivalente à l’ALD et, afin que le dépôt ne se produise qu’au travers de la croissance de la couche limitée à la surface, la surface à recouvrir doit être saturée et tout précurseur physisorbé en excès ou restant au-dessus de la surface doit être enlevé dans la zone de purge. Puisque, par le principe même de la méthode SALD, les précurseurs sont fournis en continu, leur séparation efficace est une question clé et les réacteurs doivent être conçus de telle sorte que la barrière d’écoulement inerte soit efficace. Comme nous l’avons vu au § 2

Cet article est réservé aux abonnés
Logo Techniques de l'Ingenieur

Cet article est réservé aux abonnés. Il vous reste 92 % à découvrir.

Cet article est réservé aux abonnés Consulter un extrait gratuit

Déjà abonné ?


Lecture en cours
Dynamique des fluides et SALD : des défis d’ingénierie

Article inclus dans l'offre

"Nanosciences et nanotechnologies"

( 154 articles )

Une base complète d’articles

Actualisée et enrichie d’articles validés par nos comités scientifiques.

Services

Quiz, médias, tableaux, formules, vidéos, etc.

Des modules pratiques

Opérationnels et didactiques, pour garantir l'acquisition des compétences transverses.

Des avantages inclus

Un ensemble de services exclusifs en complément des ressources.

Voir le détail de l'offre

Dans les ressources documentaires

Technologies de réacteurs pour le dépôt par couche atomique : fondements, sous-systèmes et configurations

Ce chapitre passe en revue les différents types de réacteurs développés pour le dépôt par couche atomique...

Barrières à l’environnement par ALD

Les barrières à l’environnement sont des couches minces limitant les échanges de gaz et de composés volat...

Dépôt par ablation laser pulsé

Cet article est une revue de la technique de dépôt en couche mince par ablation laser pulsé ou  Puls...

ALD en microélectronique - Évolution, et utilisation dans les micro et les nano-dispositifs avancés

Cet article est une revue de l’utilisation du dépôt par couches atomiques dans le secteur de la microélec...

Tous les livres blancs
Article Qu'est-ce que le Power-to-Gas ?
1 septembre 2023
Qu'est-ce que le Power-to-Gas ?

Le Power-to-Gas est le procédé par lequel de l’énergie électrique est convertie en énergie chimique, sous forme gazeuse. Par rapport à l’électricité, le gaz ain...

Toutes les actualités

Inscrivez-vous aux newsletters !

Contactez-nous