1. Pulvérisation cathodique magnétron pour la synthèse de films minces
1.1 Principe de base
La pulvérisation cathodique magnétron est une technique de dépôt de films minces métalliques (conducteurs) ou céramiques (isolants) utilisant un plasma.
Le plasma, souvent appelé « quatrième état de la matière », est un gaz constitué de particules neutres, d’ions positifs (ou négatifs) et d’électrons. Les aurores boréales, les éclairs, ou les flammes en sont autant de manifestations naturelles.
Dans les plasmas froids, dont il est question ici, pour le traitement des matériaux, l’énergie des électrons est très supérieure à celle des ions et des atomes, molécules neutres. Cependant, macroscopiquement, le plasma reste globalement neutre et proche de la température ambiante. Les électrons cèdent leur énergie aux atomes...
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Pulvérisation cathodique magnétron pour la synthèse de films minces
La pulvérisation cathodique en régime d’impulsions de haute puissance
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