2. La pulvérisation cathodique en régime d’impulsions de haute puissance
2.1 Préambule
La synthèse de nouveaux matériaux sur substrats de forme complexe, et l’amélioration de la qualité des films existants, sont les principales motivations du développement d’alimentations électriques innovantes.
Une limitation de la pulvérisation cathodique conventionnelle est liée au refroidissement de la cible, puisque la plupart de la puissance électrique est dissipée au sein de la cible de pulvérisation en énergie thermique, suite au bombardement ionique. La technologie HiPIMS permet de générer des courants instantanés très élevés, tout en maintenant un échauffement réduit de la cible, du fait de l’utilisation d’impulsions de courtes durées, de quelques μs à quelques centaines de μs, en gardant un rapport cyclique faible, typiquement inférieur...
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La pulvérisation cathodique en régime d’impulsions de haute puissance
Importance du champ magnétique dans un procédé de pulvérisation cathodique magnétron
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