Conclusion
Pulvérisation cathodique magnétron à haute puissance (HiPIMS)

Les plasmas froids permettent d’obtenir, avec une faible quantité de matière première, une surface très spécifique, sans employer de produits chimiques dangereux, toxiques ou polluants. Cependant, ils nécessitent encore actuellement l'emploi de technologies de vide contraignantes pour des procédés industriels.

Apparue dans les années 1990, la technologie HiPIMS permet de produire des plasmas froids fortement ionisés favorisant la synthèse de matériaux en films minces aux propriétés nouvelles ou améliorées. L’application d’impulsions de haute puissance à faible rapport cyclique permet d’éviter un échauffement moyen trop important de la cible. Par ailleurs, en appliquant des impulsions de courte durée, la décharge est entretenue sans apparition d’arcs intempestifs, nuisibles à la qualité du film en croissance. L’énergie fournie aux ions et aux électrons du plasma...