4. Glossaire
ALD ; atomic layer deposition
Dépôt de couche atomique. Procédé de dépôt chimique de surface en phase vapeur. Cette technique basée sur une exposition séquentielle du substrat à deux (minimum) précurseurs permet de couvrir des structures uniformément tridimensionnelles.
APCVD ;atmospheric pressure chemical vapor deposition
Dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique.
CVD ;chemical vapor deposition
Dépôt chimique en phase vapeur. Méthode de dépôt chimique sous vide de films minces à partir de précurseurs chimiques. À la différence de l’ALD, dans le procédé CVD, les précurseurs chimiques sont injectés simultanément et réagissent ensembles à la surface.
FTO ;fluorine tin oxide
Oxyde d’étain dopé au fluor. Matériau transparent et conducteur, utilisé dans les cellules photovoltaïques à...
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