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Erich BERGMANN

Professeur HEPIA - Consultant scientifique - Bestcoating Sarl Genève, Suisse

  • M1663
    Dépôts sous vide par procédés plasma. Principes

    Les procédés de dépôt à partir de la phase vapeur se divisent en deux grandes familles: le dépôt par voie physique (ou PVD pour Physical Vapor Deposition) et le dépôt par voie chimique (ou CVD pour Chemical Vapor Deposition).

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