Frédérique DONSANTI

Ingénieur chercheur à EDF, Docteur en génie des procédés et haute technologie de l’université Pierre et Marie Curie - Institut de Recherche et Développement de l’Énergie Photovoltaïque (IRDEP), UMR 7174 EDF-CNRS Chimie ParisTech, Chatou, France Institut du Photovoltaïque d’Île-de-France (IPVF), France

  • Article de bases documentaires : RE253
    Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

    Grâce à leurs réactions irréversibles  et saturées, les procédés d’ALD permettent de déposer des couches uniformes, minces d’épaisseur et de composition contrôlée. Découvrez les avantages et les nombreuses applications industrielles de cette technique de dépôt chimique.