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Stephanos KONSTANTINIDIS

Maître de recherches du Fonds National de la Recherche Scientifique (FNRS) - Université de Mons, laboratoire de chimie des interactions Plasma Surface (ChiPS), Mons, Belgique

13 septembre 2023

IN251
Pulvérisation magnétron à impulsions bipolaires de haute puissance

Savez-vous que la technologie HiPIMS bipolaire permet de contrôler l’énergie des ions intervenant dans la formation de films minces fonctionnels ? Approfondissez ce type de pulvérisation cathodique magnétron avec le cas de la croissance de films de titane métallique sur substrats conducteurs et celui du dioxyde de titane sur substrats isolants.
25 octobre 2013

IN207
La pulvérisation cathodique magnétron en régime d’impulsions de haute puissance (HiPIMS)

La technologie HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, est une technique de dépôt de films minces métalliques (conducteurs) ou céramiques (isolants) utilisant un plasma. L’avantage étant d’obtenir, avec une faible quantité de matière première, une surface très spécifique sans employer de produits chimiques dangereux, toxiques ou polluants.