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Chargé de recherche CNRS, - Laboratoire de Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP), Université Grenoble Alpes, CNRS, Grenoble INP, Grenoble, France
Savez-vous que la technologie de dépôt par couche atomique (ALD) peut protéger les semi-conducteurs organiques ou inorganiques de la dégradation par les gaz oxydants de l’atmosphère ? En effet, elle permet le dépôt sur ces circuits de films barrières sans défaut.
Relu et validé
Combinant avantageusement certaines propriétés des métaux et des céramiques, les classes MAX connaissent maintenant un développement à l’échelle industrielle. Découvrez leurs différentes voies d’élaboration, leurs propriétés et leur positionnement face aux céramiques techniques existantes.
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