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Aubin PARMENTIER

Doctorant, - Institut Photovoltaïque d’Île-de-France (IPVF) UMR CNRS 9006, Laboratoire des Matériaux et du Génie Physique de Grenoble (LMGP) UMR CNRS 5628, France

24 septembre 2026

RE261
Barrières à l’environnement par ALD

Savez-vous que la technologie de dépôt par couche atomique (ALD) peut protéger les semi-conducteurs organiques ou inorganiques de la dégradation par les gaz oxydants de l’atmosphère ? En effet, elle permet le dépôt sur ces circuits de films barrières sans défaut.