Procédé ALD
Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

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Procédé ALD
Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications

Auteur(s) : Nathanaelle SCHNEIDER, Frédérique DONSANTI

Date de publication : 10 octobre 2016 | Read in english

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3. Procédé ALD

Le procédé ALD est ici décrit dans son ensemble, c’est-à-dire ses caractéristiques clés (cycle ALD, dépôt chimique, réactions de surface, effet de la température, du nombre de cycles, du programme…), ainsi que sa mise au point

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