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Évaluation thermodynamique des précurseurs ALD

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RE252 V1 Recherche et innovation

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Évaluation thermodynamique des précurseurs ALD

Auteur(s) : Ioana NUTA, Elisabeth BLANQUET

Date de publication : 10 novembre 2016 | Read in english

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5. Glossaire

Dépôt de couches atomiques ( ALD ) ; Atomic Layer Deposition

Technique de dépôt des couches ultra-minces qui est basé sur l’utilisation de plusieurs précurseurs en phase gazeuse qui sont amenés successivement sur une surface où ils vont réagir avec elle, en mode séquentiel.

Dépôt chimique en phase vapeur ( CVD ) ; Chemical Vapor Deposition

Technique de dépôt des couches ultra-minces qui consiste à mettre un composé volatil du matériau à déposer en contact soit avec un autre gaz au voisinage de la surface à recouvrir, soit avec la surface en question, de façon à provoquer une réaction chimique donnant au moins un produit solide....

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ALD assistée par plasma (PEALD)

Cet article a pour but de montrer l’intérêt d’une assistance plasma dans un procédé ALD. La première sect...

Réacteurs ALD

Les réacteurs de dépôt de couche minces par ALD (Atomic Layer Deposition) pour une variété d'applications...

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