Marceline BONVALOT

Depuis le début des années 2010, des procédés de gravure par couche atomique (Atomic Layer Etching, ALE) ont été développés pour la fabrication de dispositifs avancés en microélectronique. Il existe différentes façons de les mettre en œuvre, avec des équipements et diagnostics adaptés.

Découvrez le dépôt sélectif par zone, une technique permettant de déposer un matériau uniquement sur certaines zones d’un substrat, sans passer par des étapes de photolithographie et de gravure. Sa sélectivité vis-à-vis de la chimie de surface est un point-clef de sa mise en œuvre.