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Dorra DALLEL

Post-doctorante - Chimie ParisTech, PSL Research University, CNRS, Institut de Recherche de Chimie Paris (IRCP), F-75005 Paris, France

10 octobre 2016

RE256
ALD pour les piles à combustible à haute température

Le dépôt par couches atomiques (ALD) représente une grande avancée pour tous les types de piles à combustion à haute température. L’intérêt est le dépôt de couches très minces, conformes et denses, dont le rôle s’étend du contrôle de la corrosion à la création de fonctionnalités spécifiques.

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