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Chargé de cours - Laboratoire d’électronique de puissance et procédés plasma (P³LAB), Haute École en Hainaut, Mons, Belgique
La technologie HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, est une technique de dépôt de films minces métalliques (conducteurs) ou céramiques (isolants) utilisant un plasma. L’avantage étant d’obtenir, avec une faible quantité de matière première, une surface très spécifique sans employer de produits chimiques dangereux, toxiques ou polluants.
Savez-vous que la technologie HiPIMS bipolaire permet de contrôler l’énergie des ions intervenant dans la formation de films minces fonctionnels ? Approfondissez ce type de pulvérisation cathodique magnétron avec le cas de la croissance de films de titane métallique sur substrats conducteurs et celui du dioxyde de titane sur substrats isolants.
La technologie HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, est une technique de dépôt de films minces métalliques (conducteurs) ou céramiques (isolants) utilisant un plasma. L’avantage étant d’obtenir, avec une faible quantité de matière première, une surface très spécifique sans employer de produits chimiques dangereux, toxiques ou polluants.
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