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Professeur - University at Albany, College of Nanotechnology Science and Engineering, Albany, NY, USA
Découvrez le dépôt sélectif par zone, une technique permettant de déposer un matériau uniquement sur certaines zones d’un substrat, sans passer par des étapes de photolithographie et de gravure. Sa sélectivité vis-à-vis de la chimie de surface est un point-clef de sa mise en œuvre.
Découvrez l’impact de l’assistance plasma sur les propriétés physico-chimiques ou électriques des dépôts de couches atomiques. Citons entre autres l’augmentation de la vitesse de croissance par cycle et la modification de la résistivité électrique du matériau.
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