Christophe VALLÉE

Professeur des Universités de l’UGA (Université Grenoble Alpes) - Affiliations : Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM), CEA/LETI/MINATEC, 17 rue des Martyrs 38054 Grenoble Cedex 9, France ; Polytech Grenoble, 14 place du Conseil National de la résistance, 38400 Saint-Martin-d’Hères, France

  • Article de bases documentaires : RE260
    ALD assistée par plasma (PEALD)

    Cet article a pour but de montrer l’intérêt d’une assistance plasma dans un procédé ALD. La première section de cet article permet d’introduire et de définir les plasmas froids ainsi que les réacteurs associés. La seconde section porte sur les avantages d’une assistance plasma dans un procédé ALD. Dans cette section, de nombreux exemples de matériaux déposés par PEALD sont donnés avec à chaque fois une discussion sur l’impact de l’assistance plasma sur leurs propriétés physico-chimiques ou électriques. Enfin, quelques limites actuelles de ce procédé sont données en fin d’article avant de conclure.