7. Glossaire
CVD (Chemical Vapor Deposition) et MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)
Dépôt chimique en phase vapeur : réaction entre un précurseur volatil (par exemple un organo-métallique) et un gaz pour fabriquer un dépôt sur un substrat.
RAP (Reactive Atmosphere Processing)
Technique permettant de purifier des composés chimiques (élimination des oxydes et hydroxydes dans les fluorures notamment) par réactions des impuretés avec les gaz de l’atmosphère réactive.
EBS (Electron Beam Sputtering)
Technique de dépôt physique en phase gazeuse dans laquelle une anode cible est bombarbée par un faisceau d’électrons.
PLD (Pulsed Laser Deposition)
Méthode de dépôt en couches minces utilisant un laser à impulsions de très fortes puissances crêtes.
PVD (Physical Vapor Deposition)
...
Cet article est réservé aux abonnés
Cet article est réservé aux abonnés. Il vous reste 92 % à découvrir.
Déjà abonné ?
Se connecter
Lecture en cours
Glossaire