4. Génération et dosage de vapeur de précurseur
Un élément clé de tout système ALD est le système de génération de vapeur de précurseur et dosage des pulses. La fonction de ce système est de générer une vapeur bien contrôlée des différentes molécules précurseurs dans un volume qui est souvent séparé. Dans le cas de l’ALD temporelle, le système va injecter un flux intermittent (sous la forme d’une séquence d’impulsions) dans le réacteur. Dans le cas de l’ALD spatiale, le système génère un flux continu dans une des zones de précurseurs.
Une première étape est la génération de la vapeur, soit sous sa forme pure, soit en mélange avec un gaz porteur. Pour la plupart des systèmes d’ALD, il est souhaitable d’avoir une pression d’au moins 1 Torr dans les lignes de gaz précurseur. Si la pression du précurseur est trop faible, il peut générer un phénomène de reflux, à savoir un...
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Génération et dosage de vapeur de précurseur
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