Dépôts épais par projection thermique
Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

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N4801 V1 Article de référence

Dépôts épais par projection thermique
Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

Auteur(s) : Pierre FAUCHAIS

Relu et validé le 19 mars 2026 | Read in english

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4. Dépôts épais par projection thermique

4.1 Principe

La projection thermique consiste à fondre des particules injectées sous forme solide ou formées à partir de fils, de cordes, ou de tiges dont l'extrémité est fondue puis atomisée avant de les faire s'écraser d'abord sur le substrat, puis le dépôt en construction  [2]. Les particules s'écrasent sous forme de lamelles qui se solidifient en quelques microsecondes ou dizaines de microsecondes suivant leur vitesse d'impact, déterminée en grande partie par le procédé utilisé, et dont l'empilement va former le dépôt. Le contact réel lamelle solidifiée-substrat ou lamelle-lamelle varie avec les conditions de projection. Naturellement les propriétés thermomécaniques des dépôts sont d'autant meilleures que le pourcentage de surfaces en contact est plus élevé....

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