Conclusions et perspectives
Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

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N4801 V1 Article de référence

Conclusions et perspectives
Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

Auteur(s) : Pierre FAUCHAIS

Relu et validé le 19 mars 2026 | Read in english

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6. Conclusions et perspectives

Que ce soit pour les procédés de dépôts de couches minces ou de couches épaisses depuis les deux dernières décennies beaucoup de travaux ont été consacrés aux développements industriels de dépôts fonctionnels céramiques ou non. Dans les deux cas le développement de nouvelles techniques de mesure, et leurs extensions pour pouvoir les utiliser sur des installations industrielles, ont permis d'améliorer nettement la reproductibilité et la fiabilité des dépôts et donc leur usage industriel. Par exemple, pour les dépôts par projection thermique les mesures en vol (distributions de températures, vitesses, trajectoires, diamètres) des particules projetées, couplées aux dispositifs électroniques de régulation des procédés, sont disponibles depuis les années 2000. Ils permettent par exemple pour la projection plasma de compenser l'usure des électrodes en maintenant les températures et les vitesses...

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